Cuando el alcance de tus tareas diarias incluye mucha edición de documentos, sabes que cada formato de documento necesita su propio enfoque y, en algunos casos, software particular. Manejar un archivo UOF que parece simple puede a menudo detener todo el proceso, especialmente cuando intentas editar con software inadecuado. Para prevenir este tipo de dificultades, consigue un editor que pueda cubrir todos tus requisitos sin importar la extensión del archivo y limpia la marca en UOF sin obstáculos.
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Antes de los pasos de producción a alta temperatura, se utiliza un proceso de limpieza llamado limpieza RCA para reducir las impurezas del wafer y prevenir la contaminación de las herramientas. Los wafers de silicio se cargan en casetes de PTFE Teflón para sumergirse en oxidantes y ácidos fuertes. En RCA 1, se utiliza una solución de hidróxido de amonio, peróxido de hidrógeno y agua desionizada para eliminar partículas orgánicas durante seis minutos, seguido de un enjuague en agua desionizada. RCA 2 luego elimina contaminantes metálicos utilizando una solución de ácido clorhídrico, peróxido de hidrógeno y agua desionizada a 75 grados Celsius durante seis minutos.